硼是半導體生產過程中的一種P型雜質，過量會使N型硅反轉，從而影響電子和空穴的濃度。因此，在超純水行業(yè)中應充分考慮去除硼。...

現(xiàn)在的超純水生產工藝大多采用反滲透設備+EDI+拋光混床，無需再生藥劑，有效降低了運行成本。汽車芯片用超純水設備生產的水質電阻率可以達到18MΩ·CM，滿足汽車芯片用水的需求。...

經過多年實踐，萊特萊德結合采用反滲透、EDI裝置結合拋光混床的模塊化設計工藝制備超純水，其水電阻率高達18MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，具有環(huán)保、經濟、發(fā)展?jié)摿薮蟮戎T多優(yōu)點...

鋰電池超純水設備采用預處理、反滲透技術、超凈化處理和后處理方法，幾乎完全去除水中的導電介質，并將水中的非游離膠體物質、氣體和有機物去除到很低的程度。...

半導體行業(yè)在生產的時候需要大量的清洗水，隨著半導體工業(yè)的不斷發(fā)展，對清洗水的電導性、離子含量、TOC、DO、Particles要求也越來越嚴格。...

超純水設備作為芯片生產過程中的標準設備，通常采用反滲透水處理設備、電離子(EDI)設備和拋光混合床制造超純水，使其出水滿足芯片生產用水的需求，成為芯片產業(yè)復興的堅強后盾。...